Etude SoonJung Panthensoside lehemask - 25 ml

Rahustav bambusest lehemask Etude SoonJung Panthensoside lehemask Mõeldud tundlikule ja ärritunud nahale. Pantenoolil, madekassosiidil ja Centella Asiatical põhinev koostis rahustab intensiivselt, taastab ja niisutab, leevendades väsinud nahka.

Etude SoonJung Panthensoside Sheet Mask on mask, mis on mõeldud õrnale nahale. Minimalistlik koostis bambusest lehega kleepub ideaalselt näole, pakkudes intensiivset annust rahustavaid ja taastavaid toimeaineid.

Rikastatud pantenooli, madekassosiidi ja Centella Asiatica ekstraktiga, mask rahustab tõhusalt ärritust, soodustab taastumist ja pakub sügavuti niisutust. Ideaalne kasutamiseks pärast stressirohket päeva või tundliku naha regulaarse hoolduse osana.

Koostisained, mida armastad:

• Pantenool – niisutab intensiivselt, rahustab ja soodustab naha regenereerumist.
• Madekasoosid – Centella Asiatica, koostisosa, millel on põletikuvastane ja regenereeriv toime.
• Centella asiatica ekstrakt – rahustab ärritusi ja stimuleerib taastumisprotsesse.
• Allantoina – rahustab ärritunud nahka ja vähendab punetust.
• Trehaloos ja arginiin – niisutavad, pehmendavad ja tugevdavad naha barjääri.

Otstarve:

Mask on mõeldud tundlikule, veresoontega, ärritunud ja kuivale nahale. Ideaalne kasutamiseks pärast päikese käes viibimist, pärast kosmeetilisi protseduure või kui nahk vajab rahustamist ja regenereerimist. Sobib regulaarseks hoolduseks rahustava rutiini osana.

Kasutamine:

Kandke mask puhastatud näole, kohandades seda naha kujuga. Jätke 15–20 minutiks peale, seejärel eemaldage ja patsutage jääk essents nahka õrnalt sisse. Ärge loputage. Enne esimest kasutamist tehke tundlikkuse test.

Koostisained:

Vesi, Dipropüleenglükool,1,2-heksaandiol, Pantenool, Madekassosiid, Centella Asiatica leheekstrakt, Karbomeer, Polüglütserüül-10 lauraat, Glütseriin, Polüglütserüül-10-müristaat, Allantoiin, Arginiin, Trehaloos, Etüülheksüülglütseriin, Dinatrium-EDTA.