FarmStay Real Essence lehemask teepuu ekstraktiga – 23 ml

Teepuu ekstraktiga lehemask omab bakteritsiidseid ja rahustavaid omadusi, puhastades nahka tõhusalt . Ideaalne probleemsele ja akne tekkele kalduvale nahale.

Teepuu puhastav toime

Farmstay mask teepuu ekstraktiga on ideaalne lahendus nahale, mis vajab sügavpuhastust ja abi võitluses nahaprobleemide vastu. Selle looduslikud antibakteriaalsed omadused võitlevad tõhusalt ebapuhtuste ja mikroorganismidega, leevendades samal ajal põletikku. Valem, mis on rikastatud leevendavate koostisosadega, on regenereeriv ja viirusevastane, mistõttu on see ideaalne probleemsele nahale. Nahk muutub puhtaks, mattiks ja nähtavalt tervemaks. Koostisained, mida armastate:

• Teepuu ekstrakt (500 ppm) - omab TiB bakteritsiidseid ja põletikuvastaseid omadusi, puhastab nahka ja võitleb puudustega.
• Naatriumhüaluronaat – niisutab nahka, ilma seda koormamata, toetab regenereerumist ja silub epidermist.
• Centella asiatica – leevendab põletikku, toetab paranemist ja naha regenereerumist.
• Betaiin – säilitab õige niiskustaseme, leevendab ärritust ja kiirendab regenereerumist.
• Allantoiin – rahustab, vähendab ärritust ja toetab naha taastumisprotsesse.

Kasutamine:

Mask on mõeldud probleemsele, akne- ja põletikule kalduvale nahale. Ideaalne rasusele ja kombineeritud nahale, mis vajab puhastamist, mattimist ja talgitootmise reguleerimist.

Kasutamine:

Kandke mask puhastatud näole, siluge ja jätke 15–20 minutiks mõjuma. Eemaldage mask ja patsutage järelejäänud essents nahka sõrmeotstega. Kasutage 2–3 korda nädalas.

Koostisained:

Vesi, Glütseriin, Propüleenglükool, Naatriumhüaluronaat, Metüülpropaanediol, Fenoksüetanool, Polüsorbaat 80, Karbomeer, Trietanoolamiin, Trehaloos, Betaiin, Allantoiin, Ksantaankummi, Dinatrium-EDTA, Lõhnaaine, Melaleuca Alternifolia (Teepuu) Leheekstrakt, Camellia Sinensis leheekstrakt, Hamamelis Virginiana (Nõiahamamelis) ekstrakt, Centella Asiatica ekstrakt, Chamomilla Recutita (Matricaria) ekstrakt, Rosa Centifolia lilleekstrakt, Klorfenesiin, Alkohol.