Dr. Althea Cushion Veil rahustav mask – 1 tükk

Dr. Althea Cushion Veil Calming Mask on uuenduslik jahutav lehemask, mis on loodud tundlikule ja ärritusele kalduvale nahale. Selle ainulaadne pehme kahekihiline geeltekstuur kleepub nahale tihedalt, tagades pehme ja mugava istuvuse, samas kui Cold Stone Powder annab kohese jahutava tunde, mis rahustab punetust kohe kokkupuutel. Centella Asiatica ja kummeli ekstraktiga rikastatud mask niisutab nahka intensiivselt, tugevdab naha kaitsvat barjääri ning jätab naha rahustatud ja värskendatud tundega.

Kohene rahustav ja jahutav leevendus tundlikule nahale

Dr. Althea Cushion Veil Calming Mask on spetsiaalne lehemask, mis on loodud kõige nõudlikumale ja tundlikule nahale. See ühendab endas uuendusliku Korea tehnoloogia ja võimsad rahustavad koostisosad, et pakkuda leevendust ärritunud ja punetavale nahale. Tänu oma ainulaadsele pehmele kahekihilisele geelistruktuurile tundub mask nahal märkimisväärselt pehme ja õrn, muutes iga kasutamise tõeliseks nahahooldusrituaaliks.

Selle tõhususe saladus peitub täiustatud koostises, mis sisaldab külma kivipulbrit, mis annab peale kandmisel kohese jahutava efekti. See uuenduslik koostisosa ei paku mitte ainult meeldivat värskustunnet, vaid aitab ka vähendada punetust ja ärrituse märke, kitsendades veresooni.

Mask on täiendavalt rikastatud Centella Asiatica kompleksiga, mis sisaldab väärtuslikke toimeaineid – asiatikosiidi, madekassosiidi, aasiaathapet ja madekasshapet. Need koostisosad toimivad sünergiliselt, tugevdades naha kaitsvat barjääri, toetades kollageeni tootmist ja leevendades intensiivselt põletikku.

Koostisosad, mida sa armastad

• Külm kivipulber – annab kohese jahutava efekti, vähendab punetust ja leevendab ärritust.
• Centella Asiatica ekstrakt – tuntud oma taastavate ja rahustavate omaduste poolest; tugevdab naha kaitsvat barjääri.
• Asiatikosid ja madekassosid – Centella Asiatica aktiivained, mis leevendavad intensiivselt põletikku ja toetavad paranemist.
• Asiatikhape ja madekasshape – toetavad kollageeni tootmist, parandavad naha elastsust ja aitavad kaasa taastumisele.
• Anthemis Nobilis'e õieekstrakt (kummeliõis) – omab põletikuvastast toimet, leevendab ärritust ja sügelust.
• Betula Platyphylla Japonica mahl (kasepuu mahl) – niisutab, toidab ja toniseerib nahka, toetades selle loomulikke funktsioone.
• Panthenool (provitamiin B5) – niisutab intensiivselt, leevendab ärritust ja toetab naha uuenemist.
• Allantoiin – avaldab rahustavat mõju, leevendab ärritust ja toetab rakkude uuenemist.

Kellele see on mõeldud

Mask on mõeldud eelkõige tundlikule, reaktiivsele nahale, mis on kalduv ärritusele ja punetusele. See sobib suurepäraselt ka kombineeritud ja akne tekkele kalduvale nahale, mis vajab täiendavat rahustamist ja värskendamist. Ideaalne intensiivseks hoolduseks pärast päikese, tuule või külma mõju või muude ärritavate tegurite mõju. Soovitatav ka pärast esteetilisi ja dermatoloogilisi protseduure, mis võivad nahka ärritada.

Kasutamine

1. Puhasta nägu põhjalikult ja kanna peale toonik.
2. Eemaldage mask ettevaatlikult pakendist, laotage lahti ja eemaldage kaitsekile.
3. Asetage mask õrnalt näole, veendudes, et see kleepuks tihedalt nahale.
4. Jätke maskile 15–20 minutiks, nautides meeldivat jahutavat tunnet.
5. Eemaldage mask ja koputage järelejäänud essents õrnalt nahale, kuni see on täielikult imendunud.
6. Ära loputa maha. Jätka oma tavapärase nahahooldusega või jäta see viimaseks sammuks.

Maksimaalse jahutava toime saavutamiseks hoidke maski enne kasutamist 10–15 minutit külmkapis. Kasutage 1–2 korda nädalas või sagedamini, kui nahk vajab kohest rahustamist.

Koostis

Water, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Diglycerin, Panthenol, Polyglycerin-3, Betula Platyphylla Japonica Juice, Arginine, Carbomer, Allantoin, Polyglyceryl-10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Disodium EDTA, Glyceryl Caprylate, Centella Asiatica Extract, Anthemis Nobilis Flower Extract, Asiaticoside, Madecassoside, Asiatic Acid, Madecassic Acid.