Dr. Althea Cushion Veil rahustavad maskid – 4 tükki

Dr. Althea Cushion Veil Calming Mask on pehme, kahe geeliga lehemask, mis on välja töötatud tundlikule, kergesti ärrituvale nahale. See on rikastatud külma kivipulbriga, mis annab kohese jahutava efekti, mis rahustab punetust kohe kokkupuutel. Centella Asiatica ja kummeli ekstrakt toimivad koos pantenooli ja allantoiiniga, et tugevdada naha kaitsvat barjääri ning jätta nahk rahulikuks ja mugavaks.

Kohene rahustav ja jahutav toime tundlikule nahale

Dr. Althea Cushion Veil Calming Mask on spetsiaalne lehemask, mis on loodud kõige nõudlikumale ja tundlikule nahale. See ühendab endas uuendusliku Korea tehnoloogia ja võimsad rahustavad koostisosad, et pakkuda ärritunud ja punetavale nahale kohest leevendust. Tänu pehmele kahekihilisele geelistruktuurile on mask nahale märkimisväärselt pehme ja õrn, muutes iga kasutamise tõeliseks nahahooldusrituaaliks.

Maski tõhusus tuleneb selle arenenud koostisest, mis sisaldab külma kivipulbrit, mis annab pealekandmisel kohese jahutava efekti. See koostisosa pakub meeldivat värskustunnet ning aitab vähendada punetust ja ärrituse märke, kitsendades veresooni.

Koostist on veelgi rikastatud Centella Asiatica kompleksiga, mis sisaldab selliseid toimeaineid nagu asiatikosid, madekassosid, aasiaathape ja madekasshape. Koos tugevdavad need koostisosad naha kaitsvat barjääri, toetavad kollageeni tootmist ja rahustavad põletikku.

Koostisosad, mida sa armastad

• Cold Stone pulber – annab kohese jahutava efekti, vähendab punetust ja leevendab ärritust.
• Centella Asiatica ekstrakt – tuntud oma taastavate ja rahustavate omaduste poolest, tugevdab naha kaitsvat barjääri.
• Asiatikosid ja madekassosid – Centella Asiatica aktiivained, mis leevendavad põletikku ja toetavad paranemist.
• Asiatikhape ja madekasshape – toetavad kollageeni tootmist, parandavad naha elastsust ja aitavad kaasa taastumisele.
• Kummeli ekstrakt (Anthemis Nobilis) – põletikuvastane, leevendab ärritust ja sügelust.
• Kasepuu mahl (Betula Platyphylla Japonica) – niisutab, toidab ja toniseerib nahka, toetades selle loomulikke funktsioone.
• Panthenool (provitamiin B5) – niisutab intensiivselt, leevendab ärritust ja toetab naha uuenemist.
• Allantoiin – avaldab rahustavat mõju, leevendab ärritust ja toetab rakkude uuenemist.

Sobib

See mask on mõeldud eelkõige tundlikule, reaktiivsele nahale, mis on kalduv ärritusele ja punetusele. See sobib hästi ka kombineeritud ja akne tekkele kalduvale nahale, mis vajab rahustamist ja värskendamist. See on intensiivne hooldus pärast päikese, tuule, külma või muude ärritavate tegurite mõju ning soovitatav pärast esteetilisi või dermatoloogilisi protseduure, mis võivad nahka ärritada.

Kasutamine

1. Puhasta nägu põhjalikult ja kanna peale toonik.
2. Eemaldage mask ettevaatlikult pakendist, laotage lahti ja eemaldage kaitsekile.
3. Aseta mask õrnalt näole, veendumaks, et see kleepub nahale tihedalt.
4. Jätke maskile 15–20 minutiks, nautides meeldivat jahutavat tunnet.
5. Eemaldage mask ja koputage järelejäänud essents õrnalt nahale, kuni see on täielikult imendunud.
6. Ära loputa maha. Jätka oma tavapärase nahahooldusega või kasuta seda viimase sammuna.

Maksimaalse jahutava toime saavutamiseks jahutage maski enne kasutamist 10–15 minutit külmkapis. Kasutage 1–2 korda nädalas või sagedamini, kui nahk vajab kohest rahustamist.

Koostisained (INCI)

Water, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Diglycerin, Panthenol, Polyglycerin-3, Betula Platyphylla Japonica Juice, Arginine, Carbomer, Allantoin, Polyglyceryl-10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Disodium EDTA, Glyceryl Caprylate, Centella Asiatica Extract, Anthemis Nobilis Flower Extract, Asiaticoside, Madecassoside, Asiatic Acid, Madecassic Acid.