SKIN1004 Madagaskari Centella veegeel-leheampullimask – 25 ml

SKIN1004 Madagaskari Centella veegeelist ampullmask kuni hüdrogeelmask Centella Asiatica ekstrakti ja hüaluroonhappega, mis intensiivselt niisutab, taastab ja rahustab ärritust. Looduslik koostis sobib ideaalselt kõikidele nahatüüpidele.

Ta hüdrogeelmask sisaldab Madagaskari Centella Asiatica ekstrakti, mis tõhusalt taastab ja rahustab ärritust. Lisa betaiin ja hüaluroonhape niisutavad tugevalt ja parandavad naha elastsust.

Pärast maski pealekandmist on nahk nähtavalt silutud , niisutatud ja särav. Loodusliku päritoluga koostisainetega valem sobib kõikidele nahatüüpidele, sealhulgas tundlikule nahale.

Koostisained, mida armastad:

• Centella asiatica ekstrakt – taastab, rahustab ärritust ja on vananemisvastane.
• Hüaluroonhape (4 vormi) – niisutab intensiivselt, parandab elastsust ja seob vett epidermis.
• Betaiin – niisutab tõhusalt ja kaitseb nahka veekaotuse eest.
• Põldmündiõli – on põletikuvastane, heledust andev ja niisutav toime.
• Piooniekstrakt – rahustab, ja toimib antioksüdandina.

Otstarve:

Kõigile nahatüüpidele mõeldud mask. Eriti soovitatav dehüdreeritud, ärritunud, tundlikule nahale ja nahale, mis vajab taastamist.

Kasutamine:

Levita mask ühtlaselt puhastatud näole ja jäta 10–20 minutiks mõjuma. Eemaldage mask ja patsutage järelejäänud essents nahka. Enne esimest kasutamist tehke tundlikkuse test.

Koostisained:

Centella Asiatica ekstrakt, Vesi, Dipropüleenglükool, Glütserool-26, Glütseriin,1,2-Hexanediol, Betaiin, Butüleenglükool, Paeonia Suffruticosa juureekstrakt, Polüglütserüül-10 lauraat, Chamomilla Recutita (Matricaria) õie ekstrakt, Glütserüülkaprülaat, Karbomeer, Ksantaankummi, Arginiin, Etüülheksüülglütseriin, Naatriumhüaluronaat, Dekstriin, Theobroma Cacao (Kakao) Ekstrakt, Propaanidiol, Coptis Japonica juureekstrakt, Mentha Arvensis leheõli, Naatriumhüaluronaat Crosspolymer, Hüdrolüüsitud glükosamiin Glycan s, Bensüülglükool, Hüdrolüüsitud hüaluroonhape, Hüaluroonhape, Vaarika ketoon, Dinatrium-EDTA.